Untuk peralatan vakum am, pelepasan bahan adalah sumber gas utama dalamsistem vakum. Oleh itu, tujuan penyahgasan vakum adalah untuk membuang sebanyak mungkin kekotoran dan mengurangkan kandungan gas dalam bahan.
Keterlarutan gas dalam logam adalah fungsi tekanan dan suhu persekitaran. Terdapat dua jenis perubahan dalam keterlarutan dengan suhu: yang menunjukkan kesan endotermik semasa pembubaran, dan yang meningkat dengan suhu; Ia membebaskan haba semasa pembubaran, dan keterlarutannya berkurangan dengan peningkatan suhu.
Pelarutan gas dalam logam adalah proses yang boleh diterbalikkan. Apabila logam terdedah kepada persekitaran vakum, keadaan keseimbangan dinamik asalnya terganggu, dan gas cenderung untuk larut. Proses gas terlarut juga ditentukan oleh kadar resapan bendasing. Disebabkan oleh kadar resapan kekotoran yang rendah dan ketebalan logam, ia boleh dianggap lebih kurang sebagai gas resapan pepejal tak terhingga tebal.
Untuk kes di mana keterlarutan meningkat dengan suhu, meningkatkan suhu penyahgas mempunyai sedikit kesan ke atas kecekapan penyahgas. Malah, dengan peningkatan suhu, walaupun kepekatan gas dalam bahan meningkat, peningkatan kepekatan adalah sangat kecil di bawah keadaan vakum yang tinggi, dan pada masa yang sama, resapan gas mempercepatkan, yang juga boleh mencapai keseimbangan dengan luaran tekanan dalam masa yang singkat. Oleh itu, kunci kepada penyahgas vakum adalah untuk meningkatkan tahap vakum kerja peralatan penyahgas, yang secara amnya memerlukan tahap vakum kerja bahan semasa penyahgasan berada di atas 10-3Pa.
Oleh kerana kadar pelepasan bergantung kepada suhu, adalah perlu untuk menggunakan data suhu sebenar semasa mereka bentuk sistem vakum. Jika tiada data sedemikian, anggaran boleh dibuat berdasarkan nilai pada dua suhu berbeza. Kadar ekzos berubah secara eksponen, jadi isipadu ekzos adalah fungsi masa yang berubah secara perlahan (iaitu, apabila masa dilanjutkan mengikut urutan magnitud, kadar ekzos berkurangan dengan perlahan). Selepas terdedah kepada atmosfera untuk masa yang lama, bahan yang telah dinyahgas boleh diserap semula dan dikembalikan kepada keadaan asalnya. Jika sistem vakum yang kerap dikendalikan terdedah kepada atmosfera untuk jangka masa yang singkat (seperti dalam masa 1 jam) antara dua larian, ia boleh bersamaan dengan masa ekzos 10 jam dalam vakum. Oleh itu, untuk sistem vakum, untuk mengurangkan kadar pelepasan udara dan memendekkan masa pemindahan, ia harus disimpan dalam keadaan vakum dengan kerap.
Di samping itu, kadar pelepasan gas bahan bukan sahaja berkaitan dengan sifat bahan dan tempoh pelepasan gas, tetapi juga kepada proses pembuatan, persekitaran penyimpanan, dan kaedah prarawatan permukaan (seperti pembersihan, penaik, pengeboman pelepasan gas. , rawatan permukaan, dsb.) bahan. Sebagai contoh, untuk permukaan yang bersih, semakin tinggi kelicinan, semakin sedikit wap air yang terserap; Pembakaran dalam nitrogen atau udara kering boleh membentuk filem oksida kuning pucat padat pada permukaan keluli tahan karat, mengurangkan pelepasan gas, dan mengoksidakan bahan pencemar permukaan menjadi gas atau membakarnya; Apabila menggunakan pelarut organik untuk menghilangkan gris, pencemaran monolayer permukaan tidak boleh dibuang dan hanya boleh dikeluarkan dengan membakar di bawah vakum. Sebagai contoh, membakar dalam persekitaran vakum dengan suhu melebihi 200 darjah boleh mengeluarkan wap air dengan berkesan, tetapi untuk mengeluarkan hidrogen secara berkesan, pembakar vakum mesti dijalankan pada suhu melebihi 400 darjah . Berdasarkan penyelidikan tentang jumlah gas yang dibebaskan daripada bahan, konsensus berikut telah dicapai:
(1) Varieti yang berbeza, proses pembuatan dan prarawatan bahan yang serupa mempunyai kesan yang ketara ke atas kandungan gas;
(2) Di antara pelbagai kaedah prarawatan, kesan degassing terbaik dicapai dengan membakar hidrogen kering danrawatan vakum(membakar, menyepuhlindap, mencairkan). Penyaduran permukaan yang betul dan kakisan permukaan juga bermanfaat. Kesan pembersihan kimia ke atas mengurangkan pelepasan gas tidak begitu ketara, tetapi rawatan kimia awal bahan dan bahagian tidak boleh diabaikan untuk mengelakkan pencemaran relau hidrogen dan bekas vakum semasa pembakaran hidrogen selanjutnya atau penyahgas vakum, yang boleh menyebabkan pencemaran semula bahan lain yang diproses pada masa hadapan.
(3) Bahan yang telah dinyahgas tidak boleh disentuh terus dengan tangan, jika tidak, ia akan memulihkan jumlah deflasi.
(4) Semakin tebal bahan, semakin rendah suhu, dan semakin perlahan pereputan kadar pelepasan gas. Keadaan ini mematuhi undang-undang penyebaran Fick.
